Авторизация
Забыли пароль? Введите ваш е-мейл адрес. Вы получите письмо на почту со ссылкой для восстановления пароля.
После регистрации вы сможете задавать вопросы и писать свои ответы, получая за это бонусы. Все остальные функции на сайте доступны без регистрации.
Вы должны войти или зарегистрироваться, чтобы добавить ответ и получить бонусы.
EUV-литография (экстремально-ультрафиолетовая литография) – это технология, используемая в производстве полупроводниковых микросхем, которая позволяет создавать более мелкие и точные структуры на кристаллическом кремнии или других материалах.
EUV-литография использует экстремально-ультрафиолетовое (EUV) излучение с длиной волны около 13,5 нм. Это очень короткая длина волны, которая позволяет создавать более мелкие детали и увеличивает разрешение процесса литографии.
Основным компонентом EUV-литографии является EUV-источник, который генерирует экстремально-ультрафиолетовое излучение. Затем, с помощью системы оптики, это излучение фокусируется и проецируется на пластину с фоточувствительным покрытием, называемую резистом. После экспозиции резиста происходит процесс химического травления и нанесения слоев, который позволяет создать желаемую структуру.
EUV-литография является одной из ключевых технологий, которая позволяет достичь более высокой плотности интеграции и увеличить производительность полупроводниковых микросхем. Она используется в современных производственных процессах, таких как 7-нм, 5-нм и 3-нм технологии.