Авторизация
Забыли пароль? Введите ваш е-мейл адрес. Вы получите письмо на почту со ссылкой для восстановления пароля.
После регистрации вы сможете задавать вопросы и писать свои ответы, получая за это бонусы. Все остальные функции на сайте доступны без регистрации.
Вы должны войти или зарегистрироваться, чтобы добавить ответ и получить бонусы.
Алмазы могут быть выращены в лабораторных условиях при помощи технологии, известной как химическое осаждение из газовой фазы (CVD) или высокого давления и высокой температуры (HPHT).
В процессе CVD алмазы выращиваются путем осаждения углеродных атомов на подложку из алмаза или другого материала, такого как кремний. Вакуумная камера заполняется газами, содержащими углерод, такими как метан, и создается высокая температура (около 800-1000 градусов Цельсия) и низкое давление. Углеродные атомы осаждается на подложку и постепенно формируют алмазный кристалл.
Процесс HPHT включает в себя размещение небольшого кристалла алмаза в прессе, где он подвергается очень высокому давлению (около 5-6 гигапаскалей) и высокой температуре (около 1500-2000 градусов Цельсия). В этом окружении углерод начинает кристаллизоваться вокруг существующего алмаза, постепенно увеличивая его размер.
Оба метода требуют контроля температуры, давления и состава газовой среды, чтобы создать оптимальные условия для роста алмазов. В результате получаются искусственные алмазы, которые имеют те же химические и физические свойства, что и естественные алмазы.