Авторизация
Забыли пароль? Введите ваш е-мейл адрес. Вы получите письмо на почту со ссылкой для восстановления пароля.
После регистрации вы сможете задавать вопросы и писать свои ответы, получая за это бонусы. Все остальные функции на сайте доступны без регистрации.
Вы должны войти или зарегистрироваться, чтобы добавить ответ и получить бонусы.
Искусственные алмазы производятся с использованием двух основных методов: метода высокого давления и высокой температуры (HPHT) и метода химического осаждения из газовой фазы (CVD).
Метод HPHT включает нагревание графита и металлического катализатора до очень высоких температур (около 1500 градусов Цельсия) и применение очень высокого давления (около 5 гигапаскалей) для создания условий, при которых алмазы могут формироваться из аморфного углерода. Этот процесс может занимать от нескольких часов до нескольких недель, в зависимости от желаемого размера и качества алмаза.
Метод CVD включает использование газовых прекурсоров, таких как метан или ацетилен, которые вводятся в реакционную камеру с подложкой, обычно из сапфира или другого подходящего материала. Под действием высокой температуры (около 800-1000 градусов Цельсия) и низкого давления (около 100 миллибар), газы разлагаются и атомы углерода осаждается на подложке, постепенно формируя алмазный слой. Этот процесс может занимать от нескольких часов до нескольких дней.
Оба метода требуют контроля температуры, давления и химических реакций, чтобы создать условия, при которых алмазы могут формироваться. После завершения процесса алмазы могут быть обработаны и огранены, чтобы получить желаемую форму и размер.